A DuPont Proteção de Cultivos participa no período de 3 a 5 de outubro do 25º Seminário do Café, na cidade de Patrocínio, região do Cerrado Mineiro. O evento, um dos mais tradicionais da cadeia produtiva da cafeicultura, terá entre os destaques o portfólio de tecnologias da companhia para o cafeeiro, como os inseticidas Altacor e Benevia e o fungicida Aproach Prima, além do programa de manejo DuPont Café.
O inseticida Benevia é uma das tecnologias mais reconhecidas do Brasil para controle da broca-do-café e do bicho-mineiro-do-café, consideradas as pragas mais importantes da cultura nos dias de hoje. O ingrediente ativo do produto, assinala a empresa, é o composto Ciantraniliprole, de baixa toxicidade, alta potência inseticida e seletivo aos inimigos naturais dessas pragas.
Além de Benevia, outro inseticida de ponta da companhia, Altacor, também tem sido empregado com sucesso no controle do bicho-mineiro-do-café. Altacor, segundo a DuPont, foi desenvolvido com base na molécula de última geração Rynaxypyr. “Altacor proporciona prolongado período de controle do bicho-mineiro e também preserva os inimigos naturais dessa praga”, reforça o gerente de marketing da empresa, Luís Grandeza.
Já o fungicida Aproach Prima é descrito pela companhia como um produto de alta tecnologia, para manejo da ferrugem do cafeeiro e da cercospora. “Aproach Prima é rapidamente absorvido pela cultura, não é lavado pela água da chuva ou de irrigação e age no interior da planta. Seu efeito na lavoura é prolongado”, resume o diretor de marketing da empresa, Raphael Godinho.
Ainda durante o Seminário a DuPont Proteção de Cultivos destacará o Programa Café, que é ancorado no emprego de insumos de ponta e na entrega de resultados ao produtor frente às principais pragas e doenças da cultura. Fazem parte dessa metodologia os fungicidas Aproach Prima e Kocide, os inseticidas Altacor e Benevia, o herbicida Ally e o acaricida Talento.
Serviço
25º Seminário do café
Data: 03 a 05 de outubro
Local: Parque de Exposições Brumado dos Pavões – Patrocínio (MG).